三星显示申请用于制造掩模的方法专利，用于制造使用层叠体的掩模
创始人
2026-03-10 18:28:00
国家知识产权局信息显示，三星显示有限公司申请一项名为“用于制造掩模的方法”的专利，公开号CN121629316A，申请日期为2025年6月。
专利摘要显示，公开了一种用于制造使用层叠体的掩模的方法。该层叠体可以包括：硅基底；第一下无机层，覆盖硅基底的下表面；第二下无机层，覆盖第一下无机层的下表面；第一上无机层，覆盖硅基底的上表面；以及第二上无机层，覆盖第一上无机层的上表面。该方法可以包括以下步骤：形成或设置第一开口；形成或设置第一图案部分和第二图案部分；通过经由第一图案部分和第二图案部分蚀刻硅基底来形成或设置与第一开口叠置的第二开口；以及去除与第二开口叠置的第一下无机层、第二下无机层和第一上无机层。
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来源：市场资讯
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