NA EUV光刻机导致芯片生产再度升高?台积电不买账了,ASML紧急发声。
光刻机是生产制造芯片的必要设备,尤其是进入EUV时代后,芯片巨头争相购买EUV光刻机。
三星为了获得更多EUV光刻机,李在镕都亲自前往ASML总部进行协商。台积电更是EUV光刻机的大户,几乎一半的EUV光刻机都出货给了台积电。
但没有想到的是,用于2nm及以下工艺的NA EUV光刻机,却遇冷了,首台NA EUV光刻机给了英特尔,2024年规划的10台产能中,六台都是英特尔。
作为光刻机大户的台积电,对NA EUV光刻机几乎不感兴趣,这有点不合常理,毕竟,台积电拥有的EUV光刻机数量最多,主要用于生产制造7nm以下芯片。
这主要是因为3nm芯片的芯片成本已经很高,高通等厂商已经难以承受,延迟了3nm芯片,如果使用NA EUV光刻机生产2nm芯片,成本自然会更高。
数据实现,EUV光刻机的售价约2亿美元,而NA EUV光刻机的售价将近4亿美元,这将是导致2nm芯片成本上升的主要原因。
ASML也紧急发声,称NA EUV光刻机仍是目前2nm工艺最理想的解决方案,订单也在稳步增长中。
其实,台积电对NA EUV光刻机的兴趣降低,不像EUV光刻机那样,疯狂购买,主要因为以下几点。
首先,台积电芯片制造技术先进,往往不用先进的设备,也能够生产最先进的芯片,其用DUV光刻机量产了第一代7nm芯片,并表示DUV光刻机可用于5nm工艺。
台积电拥有数量众多的EUV光刻机,可能也是想用EUV光刻机量产2nm芯片。
毕竟,三星在3nm芯片上就采用了GAA工艺,而台积电宣布2nm芯片才会采用GAA工艺。
其次,美一直都想要台积电最先进的芯片制造技术,但台积电并没有给,虽然宣布在美建设5nm/3nm芯片工厂,但都延迟投产了,最晚可能到2028年。
虽然台积电宣布在美生产制造先进工艺的芯片,但这些芯片都需要运回台湾省进行封装测试,这对美芯片制造行业并没有任何实质性帮助。
这可能导致美优秀扶持本土芯片制造企业,英特尔自然成了最佳的选择。
NA EUV光刻机又是当下最先进的设备,自然也要优先出货给英特尔,其它厂商获得时间自然要往后,目的就是拉开距离。
最后,台积电将重点放在3nm芯片,2nm芯片的时间节点往后推迟,一方面是3nm芯片的产能还没有能完全释放,尤其AI芯片成新宠后,7nm、5nm产能再次迎来高峰。
另一方面是台积电在打磨3nm芯片,将会推出升级版的3nm工艺,从而实现了芯片性能和功耗的提升。
毕竟,苹果订单已经开始更多转向3nm芯片,但苹果依旧认为3nm芯片很贵。
要知道,苹果是台积电最大的客户,一直都采用高通最先进的工艺,3nm成本都让苹果难以接受,希望台积电降价,更何况是价格更高的2nm芯片。