上海超硅申请分体式基座专利,提高了外延层整体的厚度均匀性
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2026-07-21 13:53:58

国家知识产权局信息显示,上海超硅半导体股份有限公司;重庆超硅半导体有限公司申请一项名为“分体式基座、外延生长装置及外延生长方法”的专利,公开号CN122428370A,申请日期为2026年4月。

专利摘要显示,本发明涉及一种分体式基座、外延生长装置及外延生长方法。所述分体式基座包括:基座主体,呈圆盘状,所述基座主体包括相对分布的正面和背面,且圆盘状的所述基座主体的正面的边缘区域具有一环形凹槽;支撑结构,凸出设置于所述基座主体的正面上,用于承载待处理的衬底;分体式环状圈,嵌入所述环形凹槽内,所述分体式环状圈包括相对分布的上表面和下表面,且所述分体式环状圈能够沿第一方向升降运动,使得所述分体式环状圈的上表面高于所述基座主体的正面,其中,所述第一方向与所述基座主体的正面垂直相交。本发明提高了外延层整体的厚度均匀性,改善了外延层的纳米形貌。

天眼查资料显示,上海超硅半导体股份有限公司,成立于2008年,位于上海市,是一家以从事仪器仪表制造业为主的企业。企业注册资本117640.3602万人民币。通过天眼查大数据分析,上海超硅半导体股份有限公司共对外投资了7家企业,参与招投标项目24次,财产线索方面有商标信息11条,专利信息288条,此外企业还拥有行政许可201个。

重庆超硅半导体有限公司,成立于2014年,位于重庆市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本200000万人民币。通过天眼查大数据分析,重庆超硅半导体有限公司参与招投标项目15次,专利信息193条,此外企业还拥有行政许可17个。

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来源:市场资讯

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