京东方A申请纳米线专利，可解决有源区面积较大问题
金融界
2024-01-26 19:51:17

原标题：京东方A申请纳米线专利，可解决有源区面积较大问题

金融界2024年1月26日消息，据国家知识产权局公告，京东方科技集团股份有限公司申请一项名为“纳米线、阵列基板制备方法、阵列基板及电子设备“，公开号CN117461119A，申请日期为2022年5月。

专利摘要显示，本公开提供一种纳米线、阵列基板制备方法、阵列基板及电子设备，属于半导体技术领域，可解决有源区面积较大问题。纳米线制备方法包括：在衬底的第一表面制备绝缘层；在绝缘层背离衬底的表面形成具有引导沟槽的沟槽层；引导沟槽的宽度是指定粒径的诱导颗粒的粒径的0.8～1.2倍；在引导沟槽内制备诱导颗粒；在沟槽层背离衬底的表面制备析出层；对析出层进行处理，使析出层内的指定原子在诱导颗粒的诱导下沿引导沟槽析出，形成纳米线。

来源：金融界

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