国家知识产权局信息显示,ASML荷兰有限公司申请一项名为“磁阻致动器、定位装置、平台设备、光刻设备”的专利,公开号CN121420458A,申请日期为2024年6月。
专利摘要显示,本发明提供了磁阻致动器,磁阻致动器被配置为在对象上施加基本上向上的力,对象可通过定位装置的移动器在水平方向上移位,磁阻致动器包括:第一构件,第一构件被配置为连接到对象;第二构件,第二构件被配置为连接到移动器,第一构件和第二构件形成磁通路径,磁通路径包括第一构件与第二构件之间的间隙;永磁体,永磁体被布置在磁通路径中,以在磁通路径中生成偏置磁通,偏置磁通在第一构件上引致偏置向上的力;以及线圈,线圈被配置为与第一构件或者第二构件接合,并且被配置为当被激励时,在磁通路径中生成可变磁通,可变磁通在第一构件上引致可变力。
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来源:市场资讯