三星申请半导体器件专利，提高半导体器件的性能
金融界
2024-03-23 05:12:25
金融界2024年3月22日消息，据国家知识产权局公告，三星电子株式会社申请一项名为“半导体器件“的专利，公开号CN117750768A，申请日期为2023年9月。
专利摘要显示，半导体器件包括栅电极结构、第一划分图案和存储沟道结构。栅电极结构包括在第一方向上堆叠并在第二方向上延伸的栅电极。第一划分图案在第二方向上延伸穿过栅电极结构，并且在第三方向上划分栅电极结构。存储沟道结构延伸穿过栅电极结构，并且包括沟道和电荷储存结构。第一划分图案包括在第三方向上彼此相对的第一侧壁和第二侧壁。第一凹槽在第一侧壁上在第二方向上彼此间隔开，并且第二凹槽在第二侧壁上在第二方向上彼此间隔开。第一凹槽和第二凹槽在第三方向上不重叠。
来源：金融界
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