原标题：京东方Ａ获得发明专利授权：“阵列基板及其制备方法、显示装置”

证券之星消息，根据企查查数据显示京东方Ａ（000725）新获得一项发明专利授权，专利名为“阵列基板及其制备方法、显示装置”，专利申请号为CN202011178867.8，授权日为2024年3月15日。

专利摘要：本发明提供一种阵列基板及其制备方法、显示装置。阵列基板包括衬底基板和封装挡墙，封装挡墙包括无机层和有机层，无机层靠近和远离显示区的两个侧壁之间的距离在远离衬底基板的一侧大于靠近衬底基板的一侧；有机层位于无机层靠近衬底基板的一侧，且有机层的至少部分外壁与无机层朝向衬底基板一侧的外壁贴合。无机层上宽下窄的结构可以防止打印有机材料时有机墨水向封装挡墙上方攀爬，切断水氧进入显示区的路径。有机层对无机层起到支撑作用，防止无机层结构坍塌，由此提高有效提高封装效果。

今年以来京东方Ａ新获得专利授权746个，较去年同期增加了82.84%。结合公司2023年中报财务数据，2023上半年公司在研发方面投入了52.67亿元，同比减1.77%。

数据来源：企查查

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