源杰科技获得发明专利授权：“一种大功率抗反射半导体激光器”
创始人
2025-06-07 14:20:58

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示源杰科技（688498）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种大功率抗反射半导体激光器”，专利申请号为CN202410862794.6，授权日为2025年6月6日。

专利摘要：本发明公开一种大功率抗反射半导体激光器，属于激光器设计技术领域，自下而上依次包括N面金属层、衬底层、缓冲层、下限制层、多量子阱层、上限制层、下间隔层、下光栅层、上间隔层、上光栅层、填充层、盖层、接触层、钝化层和P面金属层；沿激光器腔长方向，激光器分为第一选模区和第二选模区；第一选模区和第二选模区分别在下光栅层和上光栅层均制作分布式反馈光栅结构。该激光器可提升激光器的抗反射光能力，降低反射光对激光器工作状态的影响。

今年以来源杰科技新获得专利授权3个。结合公司2024年年报财务数据，2024年公司在研发方面投入了5451.76万元，同比增76.17%。

数据来源：天眼查APP

以上内容为证券之星据公开信息整理，由AI算法生成（网信算备310104345710301240019号），不构成投资建议。

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