浙江光洋欧克取得反射式位移传感器专利，提高测量精度和稳定性_资讯

浙江光洋欧克取得反射式位移传感器专利，提高测量精度和稳定性

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2025-05-19 22:00:56

金融界2025年5月19日消息，国家知识产权局信息显示，浙江光洋欧克电子科技发展有限公司取得一项名为“一种反射式位移传感器”的专利，授权公告号CN222881943U，申请日期为2024年8月。

专利摘要显示，本实用新型涉及位移传感器技术领域，提供了一种反射式位移传感器，包括底座，所述底座的内部顶侧活动嵌设有第一摇把，所述第一摇把的底部固定安装有螺杆，所述螺杆的外表面螺纹连接有第一滑块，所述底座的右侧中心处开设有第一滑槽，所述第一滑块的右侧固定安装有法兰件，本实用新型，在使用时，通过螺杆和第一滑块等结构的配合，可以精确调整位移传感器本体的高度，以确保它在测量过程中处于最佳位置，而通过限位块和复位弹簧等结构的设计，能够方便地调整位移传感器本体的左右角度，使其能够更好地对准目标，这种结构允许在安装后对传感器位置进行微调，从而提高了测量的精度和稳定性，适应了不同应用需求。

天眼查资料显示，浙江光洋欧克电子科技发展有限公司，成立于2022年，位于温州市，是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本1000万人民币。通过天眼查大数据分析，浙江光洋欧克电子科技发展有限公司专利信息1条，此外企业还拥有行政许可2个。

来源：金融界

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