金融界2024年12月21日消息,国家知识产权局信息显示,上海合见工业软件集团有限公司申请一项名为“种关键路径优化方法电子设备及存储介质”的专利,公开号CN 119150773 A,申请日期为2024年9月。
专利摘要显示,本发明涉及EDA验证领域,特别是涉及一种关键路径优化方法、电子设备及存储介质,其通过获取时序依赖图,并基于时序依赖图对关键路径进行时序网络和数据流本地化,得到优化结果。其中,时序依赖图的获取步骤包括获取详细时序图DTG,获取数据流本地化DLOC中的固定单元;遍历DTG中的节点,当节点为浮动节点时,将浮动节点与直接相连的锚点合并生成基于引脚的时序依赖图pin_TDG。基于时序依赖图优化关键路径能够将时序网络和数据流本地化进行关联,两者之间不再是两个完全独立的过程,解决了现有技术中时序网络和数据流本地化相互独立无法关联优化的技术问题。
来源:金融界