ASML展示最新EUV光刻机：重达15万公斤，根本不担心被复刻
前几天ASML在荷兰对外展示了自己最新一代的EUV光刻机，也就是High NA EUV光刻机，目前这台光刻机暂时只到达了Intel的芯片工厂，接下来台积电和三星还要购入这款全球最强大的光刻机。以前我们只知道ASML最新的光刻机非常昂贵，但是这次展示让更多人了解到ASML High NA EUV光刻机的其他一些特点。
首先在价格上，ASML目前对外的售价是3.5亿欧元，也就是27亿人民币一套。这当然是个天文数字，普通的芯片代工厂甚至都不敢购买。而且从技术而言，这必须要芯片代工厂在芯片工艺上有极高的造诣，如果是生产5nm以上的芯片，采用这套系统多少有一些得不偿失。所以目前来看，Intel、台积电以及三星，都是希望用这台系统来生产2nm甚至更先进的芯片。
从性能来看，最新High-NA EUV设备可在8nm厚的半导体上列印电路，比上代小1.7 倍。电路越细，芯片上可安装的电晶体越多，当然性能和功耗表现也就更好。目前这套系统已获得已于去年年底运抵Intel位于俄勒冈州的D1X工厂，Intel预计要在明年才开始使用这套系统生产，而在之前还有很多工作要做。
之所以这么说，是因为这套系统实在太过于庞大。按照ASML官方所说，这套系统重量达到15万公斤，需要用到250个货箱、250 名工程师，耗时6个月才能彻底装配完成。所以这次ASML也是大方展示出自己的最新技术成果，完全不用担心谁来偷师或者复刻，因为这个系统太复杂庞大，很多部件也是高精制造的成果，即使想复刻都是没办法的。
ASML表示，目前的AI需要大量运算能力和资料储存，如果没有ASML将无法实现，这也是公司业务一大驱动力。 目前除了Intel在去年12月底运往俄勒冈州厂的一部High NA EUV光刻机之外，ASML上个季度还收到台积电、三星等订单，而台积电、Intel、三星都对该技术持乐观态度。
至于早先的上一代EUV光刻机，技术其实也不落后，还是能生产3nm的芯片，未来7nm至3nm大量的芯片用上一代的EUV光刻机显然更划算，成本也更低。当然ASML无论是最新的还是上一代的EUV光刻机，都无法销售到国内，而且国内厂商即使看了ASML的详细展示，肯定也是无法还原和复刻的，暂时性要做到相对先进的一些工艺，国内厂商还是只能靠花更多成本去多次曝光才能实现。