据人民网报道，为促进首台(套)重大技术装备创新发展和推广应用，加强产业、财政、金融、科技等国家支持政策的协同，工业和信息化部近日印发《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024年版)》(以下简称《指导目录》)，其中在电子专用装备目录下，“集成电路生产装备”包括氟化氩光刻机，光源193纳米，分辨率≤65nm，套刻≤8nm。

根据《瓦森纳协定》，美国及其盟友限制向中国出口高端技术和设备，光刻机赫然在列。2018 年，中国企业中芯国际向 ASML 支付了一台 EUV 光刻机的定金，但最终却没有完成交付。此后，禁令愈演愈烈，先进的浸润式 DUV 光刻机如 NXT 2050i、NXT 2100i 亦无法交付。2024 年 9 月，迫于压力，ASML宣布将不再对中国特定购买的 DUV 光刻机提供售后维修服务。ASML 是光刻机的集大成者，引领光刻机的技术进步。目前来看，国内光刻机国产化率不足 1%，是国产设备里最需要突破的领域。

除光刻机外，在工信部本次公布的文件中，还显示出集成电路生产装备包括硅外延炉、湿法清洗机、氧化炉、涂胶显影机的工艺节点等于或优于28nm。在美国制裁步步紧逼下，我国能够自主实现28nm芯片制程多个流程国产化，意味着我国芯片产业已经开始逐渐摆脱在28nm芯片对外国技术的依赖。随着国产芯片的发力，不断替代进口芯片，我国芯片进口额正大幅下降，芯片进口额已从2021年的2.79万亿元下降到2023年的2.46万亿元。

当前，我国重大技术装备发展已进入新的历史阶段，国内外环境正在发生极为深刻而重大的变化。从国际看，新一轮工业革命和科技变革方兴未艾，发达国家纷纷推行“再工业化”战略，重塑制造业竞争新优势，企图霸占高端发展主导权。从国内看，我国已经迈上以新质生产力推进中国式现代化的新征程，产业转型升级的任务艰巨繁重，建设制造强国任重道远。新一轮科技革命与我国加快转变经济发展方式形成历史性交汇，为我国重大技术装备抢占新一轮产业竞争制高点提供了重要契机。

近日，荷兰政府在美国的游说之下宣布扩大半导体出口管制范围，要求阿斯麦公司在对外出口DUV（深紫外光刻机）前须向荷兰政府申请相关许可。显然，这一限令针对的是中国——此前，美国就以所谓“国家安全”为由，迫使荷兰政府限制阿斯麦向中国出口EUV（极紫外光刻机）。但美国并不肯就此善罢甘休。据媒体报道，自今年3月起，美国再次向荷兰政府施压，要求后者进一步收紧对华半导体出口管制。

另外，据彭博社报道，出于对中国、俄罗斯等国在国防和外交上的担忧，美国正在对量子计算和半导体等关键技术实施新的出口管制。美国商务部工业和安全局在《联邦公报》上发布了一项临时最终规则。IFR 涵盖全球所有出口，但对实施类似措施国家/地区进行豁免，美国表示会有更多的国家效仿该规则。BIS副部长艾伦·埃斯特维兹在声明表示：“调整对量子和其他先进技术的控制，使我们的对手更难以威胁我们集体安全的方式开发和部署这些技术。”

美国从特朗普时代开始，就试图遏制中国高科技产业的发展，尤其是不许中国推广5G设备和技术，同时美国也不许中国的通讯设备进入美国市场，美国搬出了所谓的“美国国家安全”的旗号，从而对于中国高科技公司进行各类的制裁和遏制。美国在通讯领域对于中国企业频繁出手，同时美国坚持了对于欧洲盟友正要的窃听，从而暴露了美国的险恶意图，美国试图通过自己控制的通讯设备来设置后门程序，包括实现监听任务，为此一旦中国的5G技术得以推广，美国就无力维持对于全球的监听。

随着近年来中国在芯片等高精尖科技领域的崛起，作为美国唯一能够碾压中国的优势所在，自然不愿意看到中国顺利发展，以中兴、华为等中国科技企业被接连打压，处境堪忧。好在中国本就是从封锁中走出来的国家，有着强大的韧性，顶住美国压力的同时，也开始走上自主研发的道路。在这种情况下，拜登不得不孤注一掷，在下台前“梭哈”了自己的底牌。