绕开EUV光刻机造5nm芯片，日本纳米压印机，要全面出货了
众所周知，目前的芯片制造技术，基本上都是基于光刻技术。而光刻技术，需要光刻机，光刻机又与制程对应，比如KrF、ArF、ArFi、EUV等等。
所以光刻机，是所有芯片设备中，最关键的设备之一。而目前光刻机技术，基本上被ASML垄断，特别是高端EUV，ASML垄断100%市场，ArFi光刻机，ASML垄断98%的市场。
同时ASML又听美国的控制，于是乎，美国+ASML，利用光刻机，遏制住了全球芯片制造企业的喉咙。
在这样的情况之下，全球其它众多的半导体设备厂商，都想绕过ASML，绕过EUV光刻机，寻找一条新的道路。
比如俄罗斯发展X射线光刻机，日本发展纳米压印技术，欧洲发展DSA自生成技术，都想绕开光刻机，特别是EUV光刻机这条路线，不用EUV光刻机，也能制造5nm甚至以下制程的芯片。
而日本的佳能，在2023年终于成功了，成功量产出了一台可以制造5nm芯片的纳米压印设备，利用这种设备，可以制造5nm芯片。
与EUV光刻机不一样，纳米压印的原理完全不一样，它就像盖章一样，第一步先雕刻一个图章出来，下一步拿这个图章，直接印到硅晶圆上，就形成了电路图。
同时，这种纳米压印光刻机，其售价只有EUV光刻机的10%左右，耗电量也只有EUV 技术的10%。
甚至利用纳米压印机来制造5nm芯片，设备投资成本降低至原有EUV设备的40%左右，相当于减少一半。
佳能近日表示称，其已经量产的设备FPA-1200NZ2C将会在2024年出货，能够用于5nm芯片生产，到时候制造5nm芯片，就不再需要EUV光刻机了。
不过，这样的纳米印压设备，不能出口中国，佳能之前已经明确了这一点，说日本政府规定，制程在40nm以下的这种设备，出口到中国，就有限制，需要许可证。
另外，大家也要注意的是，纳米印压和EUV光刻是两种路线，很多的设备并不能通用，再加上纳米压印的效率，比EUV光刻机低很多。所以就算佳能有这技术，真正买的厂商，估计也不会多，毕竟EUV技术成熟稳定，效率高，纳米压印还不清楚。
事实上，如果没有限制，最有希望购买的是中国晶圆厂，毕竟EUV买不到，但如今中国企业无法买，佳能的客户只怕不多。